+7 (495) 532-09-99

Плазменная очистка – эффективный способ удаления загрязнений с поверхности компонентов и деталей

Плазменная очистка – эффективный способ удаления загрязнений с поверхности компонентов и деталей

Плазма – ионизированный газ, способный проводить электричество и накапливать электрический заряд от внешнего источника питания. Обычно плазма создаётся в среде пониженного давления. Молекулы газа, получив заряд энергии, нагреваются, и его ионы начинают двигаться быстрее. При соприкосновении ионов с поверхностью очищаемой детали, они сталкиваются с молекулами веществ, загрязняющих поверхность, и определенным образом, «стирают» их.  Использование плазменной очистки не предусматривает использование каких-либо химических веществ, растворителей  или опасных газов. Этот процесс применяется в чистых комнатах, в производстве печатных плат и микроэлектронике как наиболее эффективный метод очистки и активации поверхностей, в особенности, металлизированных, перед выполнением очередной технологической операции. В полупроводниковой промышленности плазменная очистка используется для подготовки металлизированной поверхности к выполнению ультразвуковой / термозвуковой сварки или пайки. Удаление органических веществ, флюса, оксидов и активация поверхности подложки улучшают прочность соединения и его долговечность.