Вакуумные системы
Подробнее
Устройства для исследований
Подробнее
Учебная лаборатория ST-LAB
Подробнее
  • Установка ЭТНА-М
  • Установка ЭТНА-П

Установка  магнетронного напыления  ЭТНА-М

Назначение

  1. Магнетронное осаждение металлических слоев.

Установка представляет из себя моноблок. Реактор выполнен из нержавеющей стали с открывающимся верхним фланцем для загрузки образцов, и несущем на себе функцию их нагрева. На нижнем фланце располагается водоохлаждаемый магнетрон с питанием постоянным током. Ориентирована на лабораторное исследовательское и образовательное применение, а также мелкосерийное производство.

Основные параметры

- поштучная обработка образцов диаметром до 100 мм;

- расположение – лицом вниз;

- максимальная температура и способ нагрева – 350 ºС, ламповый;

- диаметр используемых мишеней – 76 мм;

- мощность источника постоянного тока, напряжение максимальное – 1100 Вт, 1000 В;

- откачка на базе сухого спирального и турбомолекулярного насосов;

- количество газовых каналов, максимальный расход, способ регулирования – один, 20 см3/мин, посредством электронного регулятора;

- предельный вакуум – 10-6 торр;

- управление – автоматическое от ПК через клавиатуру и монитор или ручное;

- контроль давления – химически стойким мембранным датчиком MKS Baratron, широкодиапазонным датчиком Varian FRG700, блокировки на открытие клапанов;

- рабочее давление в реакторе – на уровне 0.5 Па, определяется потоком газа через магнетрон;

- баллон (1-3 л) с аргоном располагается внутри установки и входит в ее состав;

- инфраструктурные требования – сжатый воздух.

- питание - 220 В, не более 3 кВт;

- габаритные размеры 500х1000х1600мм, масса не более 350 кг;

Дополнительные возможности по требованию заказчика

- ионный источник с замкнутым дрейфом электронов, устанавливаемый вместо магнетрона;

- питание ионного источника – постоянным током от дополнительного контроллера.

 

Установка плазмохимического травления и осаждения ЭТНА-П

 Назначение

  1. Плазмохимическое осаждение из газовой фазы диэлектрических слоев (SiO2, Si3N4, и др.);

  2. Удаление фоторезиста в кислородной плазме;

  3. Плазмохимическое травление широкого спектра материалов, очистка и модифицирование поверхности подложек и структур;

  4. Атомно-слоевое осаждение тонких конформных слоев.

Установка имеет компактные размеры и выполнена в виде моноблока. Реактор выполнен из нержавеющей стали с постоянным верхнем фланцем, несущем на себе функции нагрева и удержания образцов. На нижнем фланце располагается узел генерации индуктивно-связанной плазмы. Загрузка образцов – фронтальная через порт быстрого доступа. Баллоны с газами располагаются в дополнительном шкафу (поставляются отдельно). Ориентирована на лабораторное исследовательское и образовательное применение, а также мелкосерийное производство.

Основные параметры

- поштучная обработка образцов диаметром до 100 мм;

- расположение образцов – лицом вниз;

- максимальная температура и способ нагрева – 600 ºС, ламповый;

- тип плазмы – индукционно-связанная (плоский воздушно охлаждаемый индуктор);

- мощность и частота генератора – 600 Вт, 13.56 МГц;

- согласование импеданса генератора с нагрузкой – устройством на базе вакуумных переменных конденсаторов с ручной регулировкой;

- количество газовых каналов, максимальный расход, способ регулирования – два, 100 см3/мин, посредством электронных регуляторов расхода;

- способ ввода газов в реактор – раздельный, струйный, распределенный (две кольцевые трубки с калиброванными отверстиями);

- управление – ручное или автоматическое с лицевой панели (программируемый логический контроллер MITSUBISHI, возможность выбора длительностей ростовых интервалов, одновременной или поочередной подачи газовых реагентов, температуры);

- контроль давления – химически стойкими мембранными датчиками MKS Baratron, блокировки на открытие клапанов;

- тип откачного насоса и предельный вакуум – роторный масляный c фильтрами на входе и выходе, 10-3 торр;

- рабочее давление в реакторе – 10-2 – 5*10-1 торр, определяется потоком газа на входе;

- реактор из нержавеющей стали без водяного охлаждения, с загрузочным портом, оборудованным смотровым окном диаметром 100 мм, ручной заслонкой, дополнительным защитным стеклом;

- сжатый воздух - не требуется;

- питание - 220 В, не более 3 кВт;

- габариты размеры 500х600х1600мм, масса не более 150 кг;

Дополнительные возможности по требованию заказчика

- доукомплектование системой для перевода жидких реагентов в газовую фазу при постоянных давлении и температуре;

- дополнительно устанавливаемый турбомолекулярный насос производительностью до 350 л/с с фланцем DN 63.

Назначение

Исследование магнитных и магнитооптических свойств поверхности тонких пленок и многослойных магнитных структур на микроскопическом уровне. Визуализация магнитной доменной структуры образцов со сверх высоким пространственным разрешением (около 150нм).

 Особенности:

Особенностью устройства является сочетание в едином аппаратно-программном комплексе основных принципов работы атомно-силового микроскопа, сканирующего ближнепольного оптического микроскопа и магнитооптического микроскопа.

Уникальным является принцип получения информации о магнитной доменной структуре образца, основанный на регистрации проходящего или отраженного света через образец в режиме скрещенной поляризации после засветки образца через апертуру (диаметр около 100нм) немагнитного кремниевого зонда в ближнепольном режиме.

Применение данных инновационных подходов позволило получить устройство, не имеющее мировых аналогов, позволяющее оператору получать информацию о магнитной доменной структуре образца с высоким пространственным разрешением (около 100нм), при этом одновременно получать информацию о рельефе образца с той же самой области с разрешением в единицы нанометров.

Ни рисунке 1 (а, б) представлены результаты измерений с использованием разработанного устройства. Изображение топографии тонкой пленки Bi:YIG (рисунок 1а) и магнитной доменной структуры (рисунок 1б) получены одновременно. Разрешение метода при визуализации топографии ~10нм в латеральной плоскости и ~1нм по высоте, при визуализации магнитной доменной структуры разрешение ~150нм. В отличии от магнитно-силовой микроскопии в разработанном устройстве используется немагнитный зонд, что исключает возможное перемагничивание в системе зонд-образец.

Безымянный

                                                          а)                                                                                                       б)

 

Рисунок 1. Топография (а) и изображение магнитной доменной структуры (б) образца тонкой пленки Bi:YIG полученные на разработанном устройстве одновременно с одной и той же области образца

 

Основные параметры:

 

Тип сканирования

Сканирование образцом

Размер образца

До 40 мм в диаметре, 
до 15 мм в высоту

Вес образца

До 100 г

XY позиционирование образца

5х5мм

Разрешение позиционирования

разрешение - 5 мкм
минимальное перемещение - 2 мкм

Поле сканирования

До 100мкм х 100мкм

Оптическое пространственное разрешение

150нм

Разрешение в режиме АСМ

10нм в латеральной плоскости

1нм по вертикали

Ошибка измерения линейных размеров
(с датчиками)

± 0.5%

Система видеонаблюдения

Оптическое разрешение

1 мкм
(0.4 мкм по требованию, NA 0.7)****

Поле зрения

4.5-0.4 мм

Непрерывный зум

возможно

Компания СИТЭК предлагает уникальную естественнонаучную лабораторию для проектной деятельности школьников и студентов ST-LAB.

Это комплекс современных исследовательских приборов, разработанный для проведения междисциплинарных учебно-исследовательских практикумов. Использование лаборатории ST-LAB в процессе обучения в рамках дополнительного и факультативного образования повышает мотивацию учащихся к инженерным и естественнонаучным специальностям и способствует ранней профессиональной ориентации учащихся.

  • Состав лаборатории формируется в зависимости от задачи и бюджета Заказчика
  • Лаборатория ориентирована на широкий спектр междисциплинарных образовательных траекторий (физика, химия, биология, информатика, математика), решать которые увлекательно и перспективно.
  • Лаборатория содержит комплекс лабораторных и проектных работ с исчерпывающим описанием, несколькими уровнями сложности.
  • Лаборатория включает в состав тестовые образцы и реактивы, а также расходное оборудование, в том числе хим. посуду, пипетки, пинцеты, покровные стекла и т.д.  

Ключевое оборудование лаборатории — Учебный сканирующий зондовый микроскоп

Предназначен для проведения измерений методами атомно-силовой и туннельной микроскопии. Прибор прост в управлении и адаптирован для проведения учебных работ, оснащен мощным программным блоком обработки получаемых изображений в режиме реального времени. Позволяет получать качественные изображения с высоким разрешением в считанные минуты

1          2

 

Характеристики

 

На базе СЗМ реализованы все основные режимы измерений: 

 

  • Принцип сканирования: сканирование зондом
  • Поле санирование: 40х40х5 мкм
  • Уровень шумов по XY: - 0,2 нм
  • Уровень шумов по Z: -  0,002 нм
  • Размер образца: 30х30х20 мм
  • Масса образца: до 200г
  • Сканирующая туннельная микроскопия и спектроскопия
  • Контактная и полуконтактная АСМ
  • Магнитно-силовая и электро-силовая микроскопии
  • Микроскопия латеральных и адгезионных сил
  • Микроскопия зонда Кельвина
  • Емкостная микроскопия
  • Режим литографии и другие моды*

3                              4 

  Полимерная пленка, размер скана: 5x5 мкм.                            Атомарное разрешение на ВОПГ. Размер скана: 5x5 нм.                                                 

  Кантилевер: NSG03, полуконтактный режим                                      Кантилевер: HA_C, контактный режим                                                                                  

Установка синтеза углеродных нанотрубок 

Предназначена для синтеза различных видов углеродных наноструктур методом каталитического пиролиза углеродсодержащей парогазовой смеси на подложках и сложных структурах.

Безымянный

     Использование технологии химического осаждения из газовой фазы в установке CVDomna позволяет получать углеродные нанотрубки как в виде материала, так и в составе структур микро- и наносистемной техники.

     Предлагаемая методика позволяет исследовать полученный нанотрубный материал без предварительной очистки, поскольку продукты реакции разложения этилового спирта способствуют окислению аморфного и слабоструктурированного углерода.

     Реакционная камера снабжена двумя автоматическими натекателями, что позволяет задавать сложные профили давления в камере, а также специализированным смесителем газов, обеспечивающим однородность поступающей в камеру смеси.

Характеристики

Максимальная температура нагрева, °С

1200

Скорость нагрева, °С/мин

150

Точность задания температуры, °С

1

Точность поддержания температуры, °С

± 5

Ресурс нагревателя (не менее), часов

4000

Потребляемая мощность (не более), Вт

1800

Материал стенок камеры роста

Кварцевое стекло

Материал подложки

Кремний

Кол-во запасных подложек, шт.

2

Диаметр, мм

95

Высота, мм

50

Давление при закрытом клапане (не более), кПа

0,2

Объем камеры системы подачи парогазовой смеси, мл

2х200

Максимальное давление парогазовой смеси, кПа

200

Максимальная температура, °С

80

Источник углерода

этанол

Питание, В

220 ± 33

Электрохимический реактор

Предназначен для синтеза различных видов оксидных пористых наноструктур методом анодного окисления на подложках и фольгах.

Безымянный

 

 

Безымянный                                                                                                                                                                                  

 Диапазон увеличений, крат

 от 40 до 600

 Тубус фактор

 1,0

 Револьверное устройство

 5 позиции для объективов с механизмом точной отцентровки относительно оптической оси

 Визуальная насадка

  тринокуляная

 Регулировка межзрачкового расстояния

 от 45 до 75

 Диоптрическая подстройка

  ±5

 Механизм фокусировки

коаксиальное расположение ручек грубой и точной фокусировки, регулировка 
натяжения ручки грубой фокусировки

 Цена деления шкал  

Механизмамикрометрической фокусировки, мм

 0,002;

 Предметный столик мм

- 160×250мм с керамическим покрытием, двух координатным перемещением
- 180 x70мм., механический, градуированный, 
со съемным препаратоводителем, и держатель чашек Петри

 Держатель препарата

держатель чашек Петри диаметром 35 мм, 55 мм и 65 мм, держатель планшетов Терасаки

 Конденсор

числовая апертура NA = 0.35мм (ELWD-72мм / LWD-150мм)

 
 Осветитель

вертикальный осветитель Келера с галогенным источником света 6В 30Вт.

 Система освещения

  по Келлеру 

 Источник питания

с автоматическим определением напряжения и регулятором яркости встроен в основание микроскопа

 Окуляры

EWF10× / 20 /Ø30 мм

 Различные объективы

Объективы LWD, Объективы LWD PH, DIC объективы, Объективы для модуляционного контраста

 Cветофильтры

 синий, зеленый

Дополнительное оборудование лаборатории 

- Аналитические весы

- Гомогенизатор

- Ультразвуковая ванна

- Магнитная мешалка с подогревом

- Водяная баня

- Источник постоянного тока

- Дистиллятор

- Мультиметр

- PH-метр

- Кондуктометр и др.

Примеры лабораторных работ:

- Изучение явления коррозии металлов и разнообразных способов защиты от них.

- Изучение механизмов сорбции, знакомство с классификацией и видами пористых структур.

- Приготовление катализатора золь-гель методом, получение углеродных нанотрубок (УНТ) в газовом реакторе, исследование влияния параметров синтеза на выход нанотрубок.

Миссия и ценности компании
  • Компания ООО «СИТЭК» имеет опыт работы с Государственными заказчиками
  • Мы ценим  профессионализм и стремимся предложить оптимальные решения для реализации проектов
  • Мы открыты для всего нового — новые технологии и компетенции, новые рынки и территории, новые партнеры и заказчики
  • Нам доверяют дорогостоящие проекты: Высокое качество услуг, Профессиональная команда, Многолетний успешный опыт
  • В рамках проекта компания ООО «СИТЭК» может выступать как исполнителем по отдельным задачам, так и выполнять весь комплекс работ «под ключ»: от проведения технологического аудита инвестиционного проекта и решения вопросов бизнес-планирования до ввода промышленных объектов в эксплуатацию
  • Лидер на рынке создания высокотехнологичных производств
  • Развитие партнерских отношений
  • Мы с уважением относимся к нашим заказчикам и партнерам, ценим взаимно эффективное сотрудничество
  • Мы преданы своему делу, гордимся нашими достижениями и возможностью участия в научном и технологическом развитии страны